99.99% καθαρότητα HIP στρογγυλό ηλεκτροστατικό όπλο επίχρισμα σκόνης με γυαλισμένο επιφανειακό φινίρισμα

Περιγραφή του προϊόντος:

Η κρυστάλλινη δομή του στόχου μεταλλικής ψεκασμού μπορεί να προσαρμοστεί για να ανταποκριθεί στις μοναδικές απαιτήσεις κάθε εφαρμογής.που είναι απαραίτητο για την επίτευξη βέλτιστων αποτελεσμάτωνΗ επιφάνεια μπορεί επίσης να ανωθεί για βελτιωμένη αντοχή και αντοχή στην φθορά.

Η καθαρότητα του στόχου ψεκασμού μετάλλου είναι 99,99%, γεγονός που εξασφαλίζει ότι παρέχει σταθερή απόδοση με την πάροδο του χρόνου.Αυτό το υψηλό επίπεδο καθαρότητας επιτυγχάνεται μέσω μιας αυστηρής διαδικασίας κατασκευής που περιλαμβάνει τη χρήση προηγμένων τεχνολογιών και τεχνικών.

Ο στόχος ψεκασμού μετάλλου συνδέεται με ίνδιο, το οποίο παρέχει ισχυρή και αξιόπιστη σύνδεση με το υπόστρωμα.Αυτή η διαδικασία δέσμευσης είναι κρίσιμη για να εξασφαλιστεί ότι ο στόχος είναι σταθερά σταθερός στη θέση του κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ψεκασμού.

Ο στόχος ψεκασμού μετάλλου είναι συμβατός με μια ποικιλία συστημάτων ψεκασμού, συμπεριλαμβανομένων εκείνων που χρησιμοποιούν ένα ηλεκτροστατικό όπλο επικάλυψης σκόνης, δέσμη άνθρακα από χάλυβα I ή όπλο κόλλας θερμής τήξης.Αυτή η συμβατότητα το καθιστά ένα ευέλικτο προϊόν που μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε ένα ευρύ φάσμα βιομηχανικών και επιστημονικών εφαρμογών.

Συνολικά, ο στόχος μεταλλικού ψεκασμού είναι ένα υψηλής ποιότητας προϊόν που προσφέρει αξιόπιστες και σταθερές επιδόσεις.και υψηλή καθαρότητα το καθιστούν ιδανική επιλογή για ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών, ενώ η ισχυρή σύνδεσή του με το ίνδιο εξασφαλίζει ότι παραμένει σταθερά στη θέση του κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ψεκασμού.

Χαρακτηριστικά:

• Ονομασία προϊόντος: Στόχος ψεκασμού μετάλλων
• Επεξεργασία των υλικών για την παραγωγή υλικών για την παραγωγή καυσίμων
• Διαμόρφωση στόχου: Μοναδικό ή πολλαπλό
• Επιφάνεια: Λάμψη, ανωτισμός
• Επιφάνεια: γυαλισμένη
• Καθαρότητα: 99,99%

Το προϊόν αυτό είναι ιδανικό για βιομηχανίες που απαιτούν μέταλλα υψηλής καθαρότητας για τις διαδικασίες τους.Η διαμόρφωση στόχου μπορεί να είναι είτε μεμονωμένος είτε πολλαπλός στόχος.Η επιφάνεια είναι πάντα γυαλισμένη για να εξασφαλιστεί ότι η διαδικασία ψεκασμού είναι συνεπής.Η καθαρότητα του μετάλλου είναι 99Αυτό το προϊόν είναι ένα βασικό συστατικό στην 3D εκτύπωση μεταλλικής σκόνης, ανθρακικού χάλυβα I Beam,και διαδικασίες κατασκευής πυροβόλων κόλλων θερμής τήξης.

Τεχνικές παραμέτρους:

Εφαρμογές:

Μια από τις κύριες εφαρμογές του Metal Sputtering Target είναι στην κατασκευή ημιαγωγών.Ο στόχος ψεκασμού μετάλλου χρησιμοποιείται επίσης στην παραγωγή ηλιακών κυψελώνΕπιπλέον, το υλικό αυτό είναι ιδανικό για χρήση στην παραγωγή μαγνητικών μέσων αποθήκευσης, όπως σκληροί δίσκοι.

Μια άλλη εφαρμογή του Metal Sputtering Target είναι στην παραγωγή διακοσμητικών επιχρίσεων.Το υλικό χρησιμοποιείται στο ηλεκτροστατικό όπλο επίχρισής σκόνης για τη δημιουργία μιας ομαλής και ομοιόμορφης επίχρισσης σε διάφορες επιφάνειεςΟ στόχος ψεκασμού μετάλλων χρησιμοποιείται επίσης στην κατασκευή μετάλλων από κράμα χάλυβα υψηλών επιδόσεων,που χρησιμοποιείται συνήθως στις αεροδιαστημικές και αυτοκινητοβιομηχανίες.

Επιπλέον, το μέταλλο-στόχος ψεκασμού χρησιμοποιείται ευρέως στην παραγωγή ιατρικών συσκευών και εξοπλισμού.και άλλα ιατρικά εμφυτεύματαΧρησιμοποιείται επίσης στην παραγωγή ιατρικών οργάνων και εργαλείων.

Ο στόχος ψεκασμού μετάλλων είναι συμβατός με ένα ευρύ φάσμα διαδικασιών κατασκευής, συμπεριλαμβανομένης της θερμής ισοστατικής πίεσης (HIP) και διάφορων διαδικασιών επεξεργασίας.Είναι επίσης ιδανικό για χρήση σε εφαρμογές που απαιτούν υψηλή ακρίβεια και ακρίβειαΤο υλικό μπορεί να διαμορφωθεί ως ένας ή πολλοί στόχοι, ανάλογα με τις ειδικές απαιτήσεις εφαρμογής.

Ο στόχος ψεκασμού μετάλλων είναι επίσης κατάλληλος για χρήση στο μηχάνημα ανίχνευσης μετάλλων μεταφοράς.Το υλικό είναι επίσης εύκολο να καθαριστεί και να συντηρηθεί, καθιστώντας την οικονομικά αποδοτική λύση για διάφορες εφαρμογές.

Προσαρμογή:

Προσαρμόστε τον στόχο σας με τα προϊόντα μας. Επιλέξτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:

• Επεξεργασία των υλικών για την παραγωγή υλικών για την παραγωγή καυσίμων
• Επιφάνεια: Λάμψη, ανωτισμός
• Κρυστάλλινη δομή: Προσαρμοσμένη
• Σχήμα: Στρογγυλό
• Διαδικασία σχηματισμού: θερμή ισοστατική πίεση (HIP)

Ο στόχος μας είναι κατασκευασμένος από υψηλής ποιότητας χάλυβα άνθρακα και είναι συμβατός με την τεχνολογία ανιχνευτών μετάλλων.προσφέρουμε 3D εκτύπωση μεταλλική σκόνη για τις ανάγκες προσαρμογής σας.

Υποστήριξη και υπηρεσίες:

Τα προϊόντα μας Metal Sputtering Target έχουν σχεδιαστεί για να ανταποκριθούν στις απαιτητικές απαιτήσεις της κατάρρευσης λεπτών ταινιών στις βιομηχανίες ημιαγωγών, οθόνων και ηλιακής ενέργειας.Προσφέρουμε ένα ευρύ φάσμα υλικών, συμπεριλαμβανομένων των καθαρών μετάλλων., κράματα και κεραμικά σε διάφορα σχήματα και μεγέθη για να ταιριάζουν στις συγκεκριμένες ανάγκες της διαδικασίας σας.

Η ομάδα τεχνικής υποστήριξης μας είναι διαθέσιμη για να σας βοηθήσει με τυχόν ερωτήσεις που μπορεί να έχετε σχετικά με τους στόχους ψεκασμού μας, συμπεριλαμβανομένης της επιλογής υλικών, της σύνδεσης στόχων και της βελτιστοποίησης της διαδικασίας.Προσφέρουμε επίσης προσαρμοσμένο στόχο σχεδιασμό και κατασκευή υπηρεσίες για να ανταποκριθεί στις μοναδικές απαιτήσεις σας.

Εκτός από τα προϊόντα στόχου ψεκασμού, προσφέρουμε επίσης μια ποικιλία υπηρεσιών για την υποστήριξη των διαδικασιών αποθέσεως λεπτών ταινιών.

• Υπηρεσίες προσανατολισμού
• Στόχος ανακύκλωση και ανάκτηση
• Χαρακτηρισμός και ανάλυση λεπτού υλικού
• Συντήρηση και επισκευή εξοπλισμού

Στόχος μας είναι να σας παρέχουμε προϊόντα και υπηρεσίες υψηλής ποιότητας για να σας βοηθήσουμε να επιτύχετε τους στόχους σας για την κατάθεση λεπτών ταινιών.Επικοινωνήστε μαζί μας σήμερα για να μάθετε περισσότερα για τα προϊόντα και τις υπηρεσίες μας Metal Sputtering Target.